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第104章 光刻机

“用是够用,但若是当做研发对象,那就不够看了。”说到这里,老爷子诡异一笑,说道:“我知道你烦我。其实我知道,很多人都烦我,但就算你们都烦我,我也要一心搞科研,为了我们的国家!最后告诉你个好消息。200纳米级的一代光刻机,老夫我已经拿下。只要配件齐全,我能马上给你造出来一台!”

“倪老……什么,您老再说一遍?!”乔扬刚想劝解,突然醒过味儿来,不由的惊问道。

倪光难一脸得意的笑道:“我就喜欢看你这种表情。是的,你没听错,第一代光刻机的制程技术,我们已经完全掌握。来,这是技术报告,你看一看。”

说着话,倪光难转身欲拿那有着两块砖头厚的材料。

乔扬忙拦住,说道:“您老就别羞辱我了,我可得能看得懂啊。”

随后乔扬正色问道:“哪怕您老再生气,我也得再问您一遍,因为这可不是小事情。您真的能生产出一代光刻机啦?”

倪光难是很是自信的说道:“你放心,老夫知道光刻机可不是儿戏,一个小小的偏差,可能上亿美元就毁了,所以我可以用生命向你保证,95年之前,只要配件齐全,我肯定能让你看到一代光刻机!”

未等乔扬说话,倪光难又抢话说道:“从经济效益方面来说,200纳米光刻机还是很有市场的,但若是从技术领先来说,眼下ASML的193无疑是……”

后面倪光难说的什么,乔扬根本没听,此时的他开始搜寻记忆中的亮点。

其实进入九十年代之后,光刻机的光源就已经被卡在193纳米,整整二十年!

直到林本坚的出现,才让光刻机的技术突飞猛进。

先说光刻机,

再说林本坚。

在林本坚出现之前,当时无论是尼康、佳能还是阿斯麦尔(ASML),都是用空气来当作光媒介。

但当光源的波长达到193纳米,就再也降不下去了。

此时光刻机的技术数据就定格在了波长193纳米,光刻辨别率70纳米。

这就是现在让倪光难激动万分的数据。

而倪光难不知道的是,就是这个数据,一直卡了光刻机发展20年!

在此其间,各路科学家想了无法的办法,就是突破不了这个数据,想让光刻辨别率再降1纳米,都是极大的奢望。

几年之后,当时间来到千禧年前后,绝大多数科学家都认为依靠193纳米波长,想要把光刻辨别率降到65纳米,那是根本不可能的。

这时很多科学家和企业,把眼光瞄向了157纳米波长的光刻技术。

但157纳米光波,有很大的局限性,否则它早就取代193纳米波,成为光刻机的主流。

原因是157纳米的光波太弱,绝大多数材质的光刻机透镜,都会强烈吸收157纳米的光波。

只有二氟化钙材质的透镜勉强可以使用。

但因为二氟化钙的材质有着诸多缺陷性,所以想要把二氟化钙研磨成光刻机透镜,难度不是一般的高。

不仅如此,二氟化钙的透镜不仅难以研磨成功,而且价格太高,并且使用寿命也很短。

总是要斥巨资去购买二氟化钙的透镜,但用不了多长时间就得换,这也令各大芯片厂商吐槽不已。

其实在林本坚横空出世之前,不是没有人提出过浸入式光刻原理。

1999年,就有专家利用环辛烷浸入液做过试验。

但因为对于环辛烷浸入液的填充,以及对于镜头的污染

、光刻胶的稳定性等诸多问题无法解决,让专家们很快就放弃了浸入法的选择。

就在这一年,在天劫功成名就的林本坚,回到了家乡海岛,加盟了著名的台积电。

因为当时的台积电是阿斯麦尔的股东之一,所以经常会去参加阿斯麦尔的会议。

在2002年的一场研讨会上,林本坚提出:“我们是否可以尝试一下浸入式方案呢?在我看来,在157纳米波长下,水是不透明的液体,但是如果波长换成193纳米的波长时,水在193纳米的光波下,折射率高达1.44,可见光就可以达到指数132纳米!”

“如果把水换成一种比较有可操作性的浸入液,重点解决掉浸入液的问题,那在现在十分成熟的193纳米光刻设备基础上,这种课题我觉得应该不是难题。然后我们还可以把157纳米的……”

当林本坚说完之后,阿斯麦尔的众大佬,立刻惊为天人。

他们不敢保证这个做法肯定可以,但确实是有很大的可操作性。

其实这不是林本坚第一次提出他的构想。

在此之前,他曾和尼康的提出过自己的疯狂设想。

而那时的尼康高层,已经完全否定了193纳米的可行性,正在努力钻研157纳米的干式光刻机。

在他们看来,芯片制程是需要真空无污染的环境,而水本身就是一种

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